行业背景
聚对羟基苯乙烯，化学名：聚(4-羟基苯乙烯)，CAS号：24979-70-2，主要用于光刻胶领域。
具体用途如下：
- KrF光刻胶成膜材料：聚对羟基苯乙烯树脂具有极佳的热稳定性、化学稳定性、光敏性以及溶解选择性，可用作光刻胶感光树脂以及成膜材料，是生产KrF光刻胶的关键原料，主要用于8英寸及12英寸等大尺寸硅片制备过程中。
- 深紫外光刻胶成膜树脂：聚对羟基苯乙烯在248nm处具有优异的光透过性、良好的碱溶性、耐热性能和抗干法刻蚀能力，使其成为248nm光刻胶的主流成膜树脂，可通过光化学反应，经曝光、显影等工序将微细图形从掩模版转移到待加工基片上。
- 极紫外光刻等先进光刻技术：聚对羟基苯乙烯及其衍生物是深紫外光刻体系中研究较为透彻的成膜树脂，其具有良好的碱溶性、透明性和抗干法蚀刻性，可作为成膜材料应用于极紫外光刻（EUV）、电子束光刻、X射线光刻等下一代光刻技术中。
- 合成大分子产酸剂：以聚对羟基苯乙烯为原料，通过化学修饰可合成大分子产酸剂，其苯环上的氢部分被三氟甲磺酸根硫鎓盐取代。这种大分子产酸剂与缩醛聚合物配合，可组成正型化学增幅型光致抗蚀剂体系。
技术简介
本项目为聚对羟基苯乙烯的制备工艺。技术产品质量达到国际标准。
技术成熟度
已通过中试
合作方式
提供技术许可
